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鍍膜設(shè)備的鍍膜方式及常會遇到的問題
發(fā)布時間:2014-03-28 瀏覽:  次

    鍍膜設(shè)備就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁熔化蒸發(fā),使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上,從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤的設(shè)備。真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù),在現(xiàn)實生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。

    鍍膜設(shè)備的鍍膜方式:離子鍍,蒸發(fā)鍍,濺射鍍
(1)鍍膜設(shè)備的特點: 成膜速度快0.1- 50um/min, 設(shè)備比較簡單,操作容易;制得薄膜純度高
;薄膜生長機理較簡單。
(2) 缺點:薄膜附著力較小,結(jié)晶不夠完善,工藝重復(fù)性不夠好。


 
鍍膜設(shè)備鍍出的產(chǎn)品掉膜是怎么回事?
一。產(chǎn)品表面潔凈度不夠,離子源清洗氬氣放大時間長點。
二。清洗是否有加了清洗劑,或者更換了清洗劑,建議用純水先試一下。
三。工藝參數(shù)是否有變動在膜厚和電流上可以做點調(diào)整。
還有就是靶材的問題等。

  

 

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