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磁控濺射鍍膜為什么為鍍膜不均?
發(fā)布時間:2014-07-10 瀏覽:  次

  無論是什么真空鍍膜機鍍制的薄膜,它的均勻性都會受到很多因素影響,現(xiàn)在我們就磁控濺射真空鍍膜機來看看造成不均勻的有哪些因素。

  磁控濺射真空鍍膜機的工作原理就是通過真空狀態(tài)下正交磁場使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。

  如此我們可以考慮與膜層厚度的均勻性有關的有真空狀態(tài)、磁場、氬氣這三個方面。

  真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來控制的,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。

  另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空計的存在,要控制好還是不成問題的。

  磁場是正交運作的,但你要把磁場強度做到百分之一百均勻是不可能的,一般磁場強的地方,成膜厚度就大,相反就小,所以會造成膜層厚度的不一致,不過在生產(chǎn)過程中,由于磁場的不均勻?qū)е碌哪硬痪鶆虻那闆r卻不是常見的,為什么呢?

  原來磁場強弱雖然不好控制,但同時工件也在同時運轉,而且是靶材原子多次沉積才會結束鍍膜工序,在一段時間內(nèi)雖然某些部位厚,某些部位薄,但另一個時間內(nèi),磁場強的作用下在原來薄的部位沉積上厚的,在厚的部位沉積上薄的,如此多次,整個膜層最終成膜后,均勻性還是比較不錯的。

  氬氣的送氣均勻性也會對膜層的均勻性產(chǎn)生影響,原理其實和真空度差不多,由于氬氣的進入,真空室內(nèi)壓強會產(chǎn)生變化,均勻的壓強大小可以控制成膜厚度的均勻性。

  雖然總是會有那么幾種因素造成膜層的不均勻,但如果正確的把真空鍍膜設備的操作做到位了,那么膜層的合格率是很高的。

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