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電子行業(yè)真空鍍膜靶材有哪些?
發(fā)布時間:2014-07-17 瀏覽:  次

  由于靶材種類繁多,常用靶材一般通過真空感應熔煉、真空電弧熔煉、真空電子轟擊熔煉,真空熱壓,氣體保護熱壓,熱等靜壓等冶金手段制造,加工工藝視材料的物理特性而定。

  根據材料組織結構的不同,可獲得單相、多相晶體組織,也可獲得固溶體或金屬間化合物,還根據需要獲得有序或無序結構,這些對制成薄膜都是相當重要的,因為一個好的二維結構的薄膜很大程度上取決于三維結構的靶材。

  為了在靶材制備過程中質量控制,一般采用輝光放電質譜儀、原子吸收光譜儀、電磁感應偶合等離子體光譜儀、X射線顯微熒光光譜儀、掃描電子顯微探針、X射線衍射儀等設備進行質量追蹤。

  為了獲得理想的薄膜,應要求靶材在幾何尺寸和形狀上非常均勻,有時為了使用方便還需將靶材與靶托進行Bonding。

  靶材與當代許多先進科學技術有關,它的應用十分廣泛,如在電子薄膜、光學薄膜、機械薄膜、防護薄膜、裝飾薄膜等方面,而且,這些領域對靶材的性能要求越來越嚴格。

  當高速粒子實現濺射可在任何物質上發(fā)生,尤其高熔點、低氣壓和化合物等物質都可以制成靶材,金屬及合金、難熔金屬、硅化物、氧化物、氮化物、貴金屬及其合金、磁性金屬及合金、稀土材料。

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