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真空蒸發(fā)鍍膜的工作原理?
發(fā)布時(shí)間:2014-07-24 瀏覽:  次

  真空蒸發(fā)鍍膜(簡(jiǎn)稱(chēng)蒸鍍)是PVD技術(shù)中發(fā)展最早,應(yīng)用較為廣泛的鍍膜技術(shù)。

  盡管后來(lái)發(fā)展起來(lái)的濺射鍍和離子鍍?cè)谠S多方面要比蒸鍍優(yōu)越,但真空蒸發(fā)技術(shù)仍有許多優(yōu)點(diǎn),如設(shè)備與工藝相對(duì)比較簡(jiǎn)單,即可沉積非常純凈的膜層,又可制備具有特定結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的膜層等等,仍然是當(dāng)今非常重要的鍍膜技術(shù)。

  近年來(lái)由于電子轟擊蒸發(fā),高頻感應(yīng)蒸發(fā)以及激光蒸發(fā)等技術(shù)在蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的廣泛應(yīng)用,使這一技術(shù)更趨完善。

  將膜材置于真空室內(nèi)的蒸發(fā)源中,在高真空條件下,通過(guò)蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā),當(dāng)蒸氣分子的平均自由程大于真空室的線(xiàn)性尺寸以后,蒸氣的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后,很少受到其他分子或原子的沖擊與阻礙,可直接到達(dá)被鍍的基片表面上,由于基片溫度較低,便凝結(jié)其上而成膜。

  為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著力,對(duì)基片進(jìn)行適當(dāng)?shù)募訜峄螂x子清洗使其活化是必要的。

  真空蒸發(fā)鍍膜從物料蒸發(fā)輸運(yùn)到沉積成膜,經(jīng)歷的物理過(guò)程如下:

 ?、俨捎酶鞣N能源方式轉(zhuǎn)換成熱能,加熱膜材使之蒸發(fā)或升華,成為具有一定能量(0.1~0.3eV)的氣態(tài)粒子(原子、分子或原子團(tuán));

 ?、陔x開(kāi)膜材表面,具有相當(dāng)運(yùn)動(dòng)速度的氣態(tài)粒子以基本上無(wú)碰撞的直線(xiàn)飛行輸運(yùn)到基體表面;

 ?、鄣竭_(dá)基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長(zhǎng)成固相薄膜;

 ?、芙M成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學(xué)鍵合。

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