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電子產(chǎn)品鍍膜時(shí)用的什么靶材?
發(fā)布時(shí)間:2014-08-29 瀏覽:  次

  電子產(chǎn)品目前運(yùn)用已十分廣泛,而這些產(chǎn)品大部分都需要進(jìn)行鍍膜后才投入到市場(chǎng)之中,現(xiàn)在常用的真空鍍膜設(shè)備是磁控濺射真空鍍膜機(jī),在這里,我們來看一下在濺射中所使用的靶材。

  一般我們使用的靶材不外乎三種類型,金屬靶材、合金靶材、化合物靶材。

  硬碟使用的靶材有很多,在記錄面上鍍上多層的薄膜,每層薄膜有各自的功效,在最底層,會(huì)鍍上40nm厚的鉻或者鉻合金,增強(qiáng)結(jié)合力和抗腐蝕能力,中間再鍍上15nm厚的鈷鉻合金,再鍍上35nm厚的鈷合金,作為磁性材料,這種材料可以充分體現(xiàn)磁性和低干擾的特性,最后再鍍上15nm厚的碳薄膜。

  磁頭的濺射靶材常用的是鐵鎳合金,后來又增加了一些新的化合物材料,像氮化鐵、氮化鐵鉭,氮化鐵鋁等,這些都是優(yōu)質(zhì)的磁介質(zhì)膜層靶材。

  CD碟片會(huì)用上鋁膜作為反射層鍍?cè)谒芰系墓ぜ?,但?duì)于CDROM和DVDROM這些碟片,就不能使用鋁膜了,因?yàn)樵谶@些碟片上會(huì)有一層染料層,上面的物質(zhì)對(duì)于鋁而言具有一定的腐蝕性,一般會(huì)由金膜或銀膜替代。

  光碟的膜層也是多層組成的,它在染料層上鍍上30nm厚的鐵鈷合金記錄層,里面混有非晶態(tài)稀土過渡元素,再鍍上20到100nm厚的氮化硅介質(zhì)層,最后鍍上鋁膜反射層。

  這些需要落得磁性能,能夠記錄數(shù)據(jù)的電子產(chǎn)品,要實(shí)現(xiàn)這些功能,還是要靠各種不同物質(zhì)所濺射而成的薄膜,靠其成膜后顯示出來的晶體狀態(tài)排序來實(shí)現(xiàn)。

 以上就是愛加真空為您帶來電子產(chǎn)品鍍膜靶材的應(yīng)用,愛加真空專注于進(jìn)口真空鍍膜設(shè)備的銷售和維修服務(wù),歡迎來電咨詢。

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