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電子束蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜區(qū)別?
發(fā)布時(shí)間:2014-10-31 瀏覽:  次

  1.兩種鍍膜原理不同:

  電子束蒸發(fā)鍍膜:利用高能電子束轟擊靶材,使材料表面產(chǎn)生很高的溫度,由固態(tài)直接升華到氣態(tài),沉積到工件表面所形成的薄膜,主要運(yùn)用在光學(xué)方面(如:眼鏡片的增透膜,CCD鏡頭,光通訊方面等等)

  磁控濺射鍍膜:高能離子轟擊靶材,使靶材表面原子飛逸出來的過程稱濺射,那么采用磁場控制后,濺射出來的原子或二次電子以輪擺線的形式被束縛在靶材表面,使得輝光維持而進(jìn)行濺射,主要運(yùn)用在裝飾方面(如:鐘表,手機(jī)外殼等金屬表面)

  2.膜的粘附性及結(jié)合的效果也不同。

  電子束鍍膜的粘附性教差,但是膜的均勻性好;濺射的鍍膜濺射能量大,和基底的粘附性也好,但是膜會(huì)有顆粒也就是均勻性稍差。

  電子束通常配備晶振片,對于已經(jīng)校準(zhǔn)的材料,10nm以下控制效果好,相反濺射出來的膜會(huì)有顆粒,10nm的厚度很難達(dá)到精準(zhǔn)可控。

  3.實(shí)用的材料不同,磁控濺射有射頻電源,可以做絕緣材料,也可以做金屬;但是電子束只能蒸鍍金屬。

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