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真空鍍膜機膜厚如何測量?
發(fā)布時間:2014-12-12 瀏覽:  次

  在使用真空鍍膜機鍍膜之后,為了需要可能會要測量膜層的厚度,測量膜層的厚度用什么方法呢?

  最直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM),這種儀器可以直接驅(qū)動蒸發(fā)源,通過PID控制循環(huán)驅(qū)動擋板,保持蒸發(fā)速率。

  只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接,它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精確度是有限的,部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學厚度。

  此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定,但溫度較高時,它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中,很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域,從而對膜層造成重大誤差。

  光學監(jiān)控是高精密鍍膜的的首選監(jiān)控方式,這是因為它可以更精確地控制膜層厚度(如果運用得當)。

  精確度的改進源于很多因素,但最根本的原因是對光學厚度的監(jiān)控。

 

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