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真空離子鍍膜原理
發(fā)布時間:2022-06-07 瀏覽:  次

  真空離子鍍膜是指在真空氣氛中利用蒸發(fā)源或濺射靶使膜材蒸發(fā)或濺射,蒸發(fā)或濺射出來的一部分粒子在氣體放電空間中電離成金屬離子,這些粒子在電場作用下沉積到基體上生成薄膜的一種過程 。

      其原理如圖3所示 。首先將鍍膜室壓力抽真空至 10 -3pa 以下,然后通入工作氣體使壓力增大至 10^0-10^-1pa,接入高壓。由于作為陰極的蒸發(fā)源接地,基體接入可調節(jié)的負偏壓,這時電源即可在蒸發(fā)源與基體間建立起低壓氣體放電的低溫等離子區(qū);電阻加熱式蒸發(fā)源通電加熱膜材后,從膜材表面上逸出來的中性原子,在向基體遷移的過程中通過等離子體時,一部分原子由于與電子碰撞而電離成正離子;另一部分與工作氣體中的離子碰撞交換電荷后也可生成離子。這些離子在電場作用下被加速而射向接入負電位的基體后,即可生成薄膜。

  

 

  3.2 真空離子鍍膜的特點

 ?、?膜 /基結合力(附著力)強,膜層不易脫落; ② 離子鍍具有良好的繞射性,從而改善了膜層的覆蓋性;③ 鍍層質量高;④ 沉積速率高,成膜速度快,可制備30微米的厚膜;⑤ 鍍膜所適用的基體材料與膜材均比較廣泛。

  本文由真空鍍膜機廠家愛加真空收集整理,僅供學習和參考!






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