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電弧/磁控濺射鍍膜設(shè)備

HIPIMS系列脈沖磁控濺射多功能鍍膜設(shè)備

高功率脈沖磁控濺射(HIPIMS)

 

    野馬真空系統(tǒng)(MVS)有在產(chǎn)業(yè)規(guī)模PVD沉積室,包括大面積HIPIMS陰極能夠提供廣泛的增強(qiáng)部件的耐磨性和性能的獨(dú)特結(jié)構(gòu)的硬盤,摩擦學(xué)涂料生產(chǎn)的重要經(jīng)驗(yàn)。

 

 

    在2005年和2007年,MVS是在北美的第一個(gè)商業(yè)組織接受和使用電源(Chemfilt / SINEX的Huettinger)工業(yè)HIPIMS濺射應(yīng)用。 自該日起顯著的進(jìn)步和研發(fā),導(dǎo)致其日常規(guī)范中的各種金屬和陶瓷的商業(yè)涂料應(yīng)用。

 

 

    該技術(shù)適用于非常高的功率密度的脈沖(> 1000Wcm -2,可選擇的脈沖持續(xù)時(shí)間50-200μS和100-500Hz的頻率)的磁控管陰極產(chǎn)生異常高的等離子密度為10 19-3或更大的順序。 這種脈沖的功率密度可以顯著更高水平電離(最多約80%)比通常出現(xiàn)在常規(guī)的磁控濺射工藝(約1-2%)釋放的靶表面的金屬物種。

 

 

樓盤,等Helmersson固體薄膜,513,1-2,2006,1-24。

 

 

   

    這些特性可以被用于產(chǎn)生顯著的變化,膜的密度和優(yōu)選的生長(zhǎng)方向/方位。 HIPIMS薄膜表現(xiàn)出非常光滑的表面,而不創(chuàng)造過量輻射采暖或宏觀粒子摻入通常使用時(shí)如發(fā)現(xiàn)電弧蒸發(fā)源。 這導(dǎo)致致密,粘附膜,即使在非常低的襯底溫度是從宏觀生長(zhǎng)缺陷。


  
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